文︱柳扶风中国近年在多个高科技领域的研发、制造一路开挂,直追美西方,其中最瞩目的不是速度问题,而是中国另辟蹊径,出奇制胜,令美西方传统的封锁、制裁、打...
2025-10-10 0
文︱柳扶风
中国近年在多个高科技领域的研发、制造一路开挂,直追美西方,其中最瞩目的不是速度问题,而是中国另辟蹊径,出奇制胜,令美西方传统的封锁、制裁、打压、脱钩、围堵不灵了。过往美西方的做法,虽然最终也不能挡住中国的科技发展,但中国若按照他们的路径、做法追赶,会受阻重重,步履维艰,追赶缓慢。现在中国的科技发展战略是另辟蹊径,探索新的途径和方法,走前人未曾走过的路,跳跃超车。
现在中国正对半导体晶片产业最难攻克的EUV(极紫外光)光刻机发起攻关。荷兰的艾司摩尔(ASML)生产的光刻机全无对手,它的产品占全球高端光刻机市场份额逾80%,EUV光刻机占100%。科技界都知道,没有EUV光刻机,就不能生产出3纳米或2纳米晶片。商界都知道,没有ASML的光刻机,台积电、三星和英特尔生产晶片也将寸步难行。然而在美国施压下,2024年起ASML不能向中国交付包括EUV光刻机在内的高端光刻机,这是美国遏制中国半导体、晶片研发生产极狠的辣招。
美国政府藉ASML光刻机打压中国,信心满满,觉得ASML的光刻机技术和生产,无人可以仿效、学会,更不可能超越。ASML的垄断地位是资本、技术和供应链优化的结果,它对资本的投入极其惊人,每年单是研发就投入超过20亿欧元;ASML光刻机的技术极为复杂,一台EUV光刻机由超过10万个独立部件组合,融合了大量物理学、化学、力学和软件等领域的尖端技术,以至于传统的破解工业设备的逆向分解技术毫无用武之地;ASML还有世界一流的“生态系统垄断圈”,建起独特的供应链,为ASML提供独一无二的技术支撑,ASML还拥有几千项光刻关键技术的专利……可见从资本、科技、市场、法律等方面,ASML都建构了重重壁垒。
中国的追赶,只能靠全新的技术突破,不走老路,目前已有多个另辟蹊径方案和试验成果,展现了“颠覆性创新”。
本文原载于《东方日报》,原标题:《走颠覆性创新之路》
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