第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在广东深圳胜利闭幕

AI科技 2025年10月24日 11:40 0 aa

10月15日，第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在广东深圳胜利闭幕。会议由集成电路创新联盟和中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟和南京诚芯集成电路技术研究院有限公司承办，中国科学院大学集成电路学院、中国光学学会光刻技术专业委员会协办，国际光学工程学会（SPIE）提供技术支持。

本次会议由费勉仪器、全芯智造、SIEMENS、浙江省产投集团有限公司、SMEE、厦门恒坤、ZEISS、KEMPUR、FUJIFILM、东方晶源、PIBOND、沈阳芯源、KLA、舒万诺、Nata、华芯程、Gigaphoton、ADVANTEST、cobetter、Cymer等国内外企业提供支持。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多企业、科研机构、高校的七百余名技术专家和学者参加了本届大会。

IWAPS会议主席、集成电路创新联盟理事长曹健林； IWAPS会议主席、集成电路创新联盟副理事长兼秘书长、中国科学院微电子研究所研究员叶甜春；中国光学学会会士、IEEE会士、美国光学学会会士、SPIE会士、IEEE光子学协会全球主席沈平以及深芯盟相关领导分别致辞。开幕式由IWAPS组委会秘书长、中国科学院大学教授、中国科学院微电子研究所研究员、SPIE会士、中国光学学会会士韦亚一主持。

在两天的时间里，来自国内外企业和研究院校等数十家机构的嘉宾分别就拟定的主题做技术报告，深入分析光刻领域最新的技术进展和解决方案，内容丰富。演讲主题包含计算光刻、DTCO、EUV、工艺、量测、设备、材料等。

IWAPS会议主席、集成电路创新联盟理事长曹健林致辞

IWAPS会议主席、集成电路创新联盟副理事长兼秘书长、中国科学院微电子研究所研究员叶甜春致辞

中国光学学会会士、IEEE会士、美国光学学会会士、SPIE会士、IEEE光子学协会全球主席沈平致辞

IWAPS组委会秘书长，中国科学院大学教授、中国科学院微电子研究所研究员、SPIE会士、中国光学学会会士韦亚一主持开幕式

本次会议汇聚国内外半导体产业界和学术界的顶尖专家、学者与技术精英，围绕先进光刻材料、关键装备、制造工艺、计算光刻、检测计量及设计协同优化等核心议题展开深入研讨。会上，各位演讲者分享了光刻技术的最新成果与产业化经验，探讨了反演光刻、掩模制造、光刻胶材料等行业热点，并剖析了全球光刻技术趋势与未来挑战。IWAPS始终致力于打造国际化、高层次的技术交流平台，为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。通过会上来自国内外专家的深度讨论与成果交流，IWAPS推动了学术界与产业界的融合，为国内半导体产业的可持续发展提供了重要技术支撑与合作机遇。自首届IWAPS以来， IWAPS报告数量和参会者都在不断增长，第九届国际先进光刻技术研讨会的圆满闭幕，展现了中国半导体产业的技术发展历程与创新活力。

CINNO Research专访D2S首席产品官和执行副总裁 Leo Pang 庞琳勇博士

在第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）期间，CINNO Research有幸采访了专注于半导体制造GPU加速解决方案的D2S公司的代表——D2S首席产品官和执行副总裁Leo Pang庞琳勇博士，深入了解其在GPU加速计算光刻领域的技术进展。

D2S首席产品官和执行副总裁Leo Pang庞琳勇博士

D2S是一家为半导体制造领域提供用GPU加速解决方案的供应商。据庞琳勇博士介绍，该公司源自楷登电子（Cadence Design Systems），由曾任Cadence首席技术官的Aki Fujimura创立，并获得硅谷顶级风险投资机构Benchmark，以及爱德万测试（Advantest）、纽富来科技（NuFlare）等半导体行业领先企业的投资。

庞琳勇博士表示，公司自2007年成立以来，始终专注于GPU加速技术在该领域的研发应用。据了解，D2S的解决方案主要服务于半导体产业链的核心环节。庞琳勇博士透露："我们目前已开始与国内的掩模厂和晶圆代工厂进行接洽。"其客户群体包括全球领先的晶圆厂、掩模厂以及芯片设计公司。

在谈及技术优势时，他进一步说明：

在晶圆制造环节，D2S的GPU加速技术解决了关键瓶颈。庞琳勇博士举例说明："对于全芯片的逆向光刻技术而言，使用CPU运行至少需要15天，而且可能根本无法完成，而GPU加速能将这个时间缩短至一至两天。"这种速度的飞跃使得全芯片逆向光刻技术（ILT）在实际生产中的应用成为可能。

在掩模制造方面，D2S开发的PLDC产品实现了突破性的创新。庞琳勇博士详细解释道："我们的掩模工艺校正（MPC）所增加的处理时间实际上为零。我们在光栅化过程中同步完成校正，总的掩模写入时间仍然保持在12小时左右。"这项技术相比传统方法需要数周的处理时间，实现了质的飞跃。

对于芯片设计公司，D2S的技术带来了更大的设计自由度。庞琳勇博士强调："我们完全基于像素基的处理方法，这使得处理曲线目标成为可能。在设计时采用曲线连接可以优化布线，可能减少所需层数。"庞琳勇博士表示："GPU最初就是为图像处理设计的，因此对于像素基计算，加速效果更为显著。"这种技术路线不仅大幅提升了处理速度，还能够将以往难以考虑的物理效应纳入计算范围，从而实现更精确的校正效果。

通过GPU加速技术，D2S正在为半导体产业提供从制造到设计的全链条赋能，推动着半导体技术向更先进工艺节点迈进。随着半导体产业持续发展，D2S的创新解决方案有望在提升芯片性能、降低制造成本方面发挥越来越重要的作用。